去光阻劑 成分

Photoresist stripper(光阻剝離劑

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NMP,DMSO,MEA三成分為傳統去光阻液所採用,因為每家公司使用狀況不一樣,有的須添加金屬腐蝕抑制劑(Inhibitor),以防止受到鹼性溶劑腐蝕,有的則modify components,選擇或添加 ...

乾膜光阻去除

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光阻剝離劑(PR Stripper)有四種主要化學成份，其個別成份之功能和注意事項如下：. 項目, 主要成份, 功 能. 1, 強鹼性化學品：KOH或NaOH, 打斷光阻之主鏈交結(Cross-linking) ...

光阻劑

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光阻成分. • 高分子. • 溶劑. 1. 溶解高分子. 2. 允許光阻藉由旋轉塗佈而成. 薄層以進行 ... 負光阻. 顯影劑. TMAH. 二甲苯. 洗滌. 去離子水. 乙酸丁脂. •TMAH ((CH3)4NOH).

光阻劑

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如248nm光阻劑常用聚對羥基苯乙烯及其衍生物為光阻劑主體材料，193nm光阻劑為聚酯環族丙烯酸酯及其共聚物，EUV光阻劑常用聚酯衍生物和分子玻璃單組分材料等為主體材料。除 ...

光阻劑

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光阻劑應用的配方成分20 多年以來，SACHEM 一直是用於電子應用的顯影劑電子配方成分的領先供應商。大部分顯影劑已使用四甲基氫氧化銨(TMAH) 和四丁基氫氧化銨(TBAH) ...

半導體光阻剝離PR Strip 製程介紹

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光阻材料是有機物一般以碳、氫、氧化合物為主體，一般都用硫酸根或氫氧根離子破壞碳氫氧鍵，達到光阻去除的目的，傳統光阻剝離劑多是採用DMSO (二甲基亞碸) ...

特殊有機廢溶劑純化再利用之研究

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負型用去光阻液

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NS-5000系列是以高沸點之有機溶劑為配方基礎所開發之去光阻液，兩者均具有不易揮發、不會結冰、高閃火點等優異特性，使用上安全無虞，為無毒性之量產用藥劑，成份中均不含 ...

默克推出全新環保光阻去除有機溶劑

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常見的應用包括金屬剝離、RDL（重分佈製程）、電鍍銅、以及一般的正負型光阻。 除了不含NMP，也不含二甲基乙酰胺（DMAC）、二甲基亞碸（DMSO）或四甲基氫 ...